Noen få uoppsamlede partikler eller gassmolekyler kan ha ekstremt alvorlige konsekvenser i enkelte prosesser. Tenk deg hvilken skade forurenset luft kan gjøre på produksjonen av halvledere, harddisker og andre svært sensitive prosesser.
I halvlederproduksjon krever avanserte produksjonsmetoder svært ren lufttilførsel med renslighetskrav som stadig øker. Den kritiske partikkelstørrelsen for wafermiljø er nå under 25 nm (2009) og spådommer er gjort at denne størrelsen vil fortsette å krympe mot 10 nm innen 2017. Luftbåren molekylær forurensning (AMC) er nå et stort problem for alle avanserte mikroelektroniske fabrikker. Et bredt spekter av AMC-effekter har blitt observert som påvirker produksjonsutbyttet. For eksempel sur korrosjon av harddisker eller wafere, kondenserbar organisk avsetning på sensitive overflater eller eksponering for lave nivåer av ammoniakk har alle vist seg å påvirke ulike prosesstrinn.
Hjertet i renrommet er filtrene, men det er en rekke hensyn til romklassifisering, valg av filter og hvordan filtre påvirker miljøet.
SAF er godt posisjonert til å anbefale den beste løsningen for avansert partikkel- og AMC-kontroll takket være mer enn 16 års erfaring innen mikroelektronikk og kontroll av halvlederkontaminering, og gjennom vårt engasjement i International Technology Roadmap for Semiconductors.
HEPA, ULPA og molekylære filtre produseres i kontrollerte miljøer i SAFs ISO 9000-sertifiserte anlegg. Vi kan produsere samme type filtre på flere produksjonssteder. Vår store produksjonskapasitet sikrer tilgjengeligheten av produktene våre til enhver tid over hele verden.
Beskytter:
-
Wafere og halvledere
-
Mikroelektronisk prosessutstyr
-
Harddiskstasjoner
-
Trykte kretskort
-
Flatskjermer
-
Solcellepaneler